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2023-07
沉积硬质涂层的常规技术
硬质涂层多是金属陶瓷涂层 (TiN 等)，由涂层中的金属和反应气化合反应生成。最初是采用热 CVD 技术在 1000℃高温下由热能提供化合反应激活能，这样的温度只适合在硬质合金刀具上沉积 TiN 等硬质涂层，至今仍然是在硬质合金刀头上沉积 TiN--Al2O3复合涂层的重要技术。
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2023-07
空心阴极离子镀膜的条件
引燃空心阴极弧光需要具备以下条件：
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2023-07
电子枪蒸发镀膜的操作过程
高压电子枪发射的电子束流的密度很大，如果电子束落点控制不当，电子束流不能偏转到金属锭上，可能将镀膜室壁等处加热烧熔，所以按照电子枪的操作程序进行操作很重要。
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2023-07
弧光电子流的特点与产生方法
弧光放电产生的弧光等离子体中的电子流、离子流、高能中性原子的密度比辉光放电高得多。在镀膜空间内有更多的气体离子和金属电离、受激发的高能原子及各种活性基团，它们在镀膜过程中的加热、清洗、镀膜阶段发挥了重要作用。
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