12
2023-05
增强型辉光放电离子镀膜技术的共同特点
由于增设了提高离化率的装置，提高了放电电流密度，偏压降低为 0.5~1kV.
减少了高能离子的过度轰击造成的反溅射和对工件表面的损伤效应。
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09
2023-05
柱状磁控溅射靶的优点
1) 比平面靶的靶材利用率高。在镀膜过程中，无论是旋磁型还是旋靶管型柱状磁控溅射靶，靶管表面各个部位连续经过永磁体前面产生的溅射区接受阴极溅射，靶材可以受到均匀的溅射刻蚀，靶材利用率高。靶材利用率高达80%~90%。
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05
2023-05
等离子体直接聚合工艺
无论是内电极式聚合设备，还是外电极式聚合设备，等离子体聚合的工艺过程相对简单，但是等离子体聚合中参数选择较为重要，因为等离子体聚合时参数对聚合薄膜的结构和性能影响较大。
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04
2023-05
热丝弧弧光增强等离子体化学气相沉积技术
热丝弧弧光增强等离子体化学气相沉积技术采用热丝弧枪发射弧光等离子体简称热丝弧弧光PECVD 技术。
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